測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
82mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/100重復精度
2.5um總放大倍率
18~195X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.5um測量精度
2.5+L/200重復精度
2.5um總放大倍率
25.2~158.4X物方視場
8.1~1.3mm工作距離
90mm光柵尺解析度
0.1um測量精度
重復精度
總放大倍率
物方視場
工作距離
光柵尺解析度
新聞資訊
News時間:08-22 2023 來自:祥宇精密
在制造業(yè)和質量保證領域,三坐標測量儀已成為測量復雜零件和幾何形狀的關鍵設備。這種測量儀可以測量物體的位置誤差、形狀精度和輪廓度,為制造過程中的質量控制提供了可靠的依據。然而,三坐標測量儀的精確測量結果不僅依賴于高精度的機械系統,還受到其控制系統的強烈影響。
一、控制系統組成
三坐標測量儀的控制系統主要由以下四個部分組成:
計算機系統:這是控制系統的核心,負責處理和存儲來自傳感器和輸入裝置的數據,并生成運動指令以控制驅動器。計算機系統還負責誤差補償和校準,以確保測量結果的準確性。
輸入裝置:操作者通過輸入裝置向計算機系統提供指令。這些指令可以是手動輸入,也可以是來自CAD模型的自動輸入。
驅動器:驅動器將計算機系統的指令轉化為機械運動,使測量頭能夠在三個坐標軸上進行移動。驅動器通常由高性能的電機和運動控制器組成。
傳感器:傳感器負責收集關于測量頭位置的信息,然后將這些信息反饋給計算機系統。常見的傳感器包括編碼器、光柵尺和麥克風傳感器。
二、控制系統功能
三坐標測量儀的控制系統具有多種功能,主要包括:
控制測量過程:通過精確地控制電機的運動,控制系統可以確保測量頭按照預設的路徑進行移動,從而實現測量過程的全自動控制。
誤差補償和校準:控制系統通過定期進行誤差補償和校準,可以消除機械和電氣系統的誤差,從而提高測量結果的準確性。
數據處理和存儲:控制系統能夠處理和存儲測量數據,包括位置信息、測量結果和誤差數據。這些數據可以通過輸出裝置進行展示或保存。
用戶界面和操作:控制系統提供了一個友好和易于使用的用戶界面,方便操作者進行參數設置、指令輸入和結果查看。
三、未來發(fā)展趨勢
隨著技術的不斷進步,三坐標測量儀的控制系統也在不斷發(fā)展。未來,三坐標測量儀的控制系統可能會在以下幾個方面進行改進:
高速度和 高精度:為了適應高速加工和更高精度的測量需求,控制系統需要更快速地進行數據處理和運動控制,同時采用更先進的誤差補償技術以提高測量精度。
智能化:通過引入人工智能和機器學習技術,控制系統可以更智能地處理測量數據,進行自我學習和優(yōu)化,從而提高測量效率和準確性。
集成化和模塊化:為了方便用戶進行使用和維修,控制系統可能會更加集成化和模塊化,將多個功能集成到更少的組件中,同時采用易于更換的模塊化設計。
互聯網和遠程監(jiān)控:未來,控制系統可能會更加強調與互聯網和其他設備的連接,實現遠程監(jiān)控和數據共享,從而提高生產效率和質量控制水平。